國內(nèi)首個半導體薄膜設備生產(chǎn)基地在沈投入使用
2017-05-24 07:12
來源: 互聯(lián)網(wǎng)
影響力評估指數(shù)：97.08
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本報訊(沈陽日報、沈陽網(wǎng)記者黃超)日前，記者在沈陽拓荊科技有限公司獲悉，在國家大基金、國家科技部重大專項以及省市區(qū)三級政府的大力支持下，沈陽拓荊科技有限公司投資興建的新廠區(qū)正式投入使用。該基地是目前國內(nèi)首個半導體薄膜設備產(chǎn)業(yè)化基地，僅用一年零三個月就完成了項目建設。新廠區(qū)占地80畝，總建筑面積40000平方米，擁有十級、百級、千級潔凈廠房共計2800平方米。拓荊公司相關負責人介紹說，該基地一期可實現(xiàn)年產(chǎn)100臺套產(chǎn)品能力，二期投產(chǎn)后，公司產(chǎn)能將達到年產(chǎn)350臺套，同時，可支撐年產(chǎn)值達50億元的生產(chǎn)規(guī)模，該基地的成功投入使用，將對沈陽制造邁向中高端起到拉動作用。
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