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消息稱三星 2nm 工藝良率已突破 60%,與臺積電基本持平

2026-03-24 21:45    來源: 云財經(jīng)    影響力評估指數(shù):16.56  
云財經(jīng)訊,三星在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域取得突破,其先進的 2 納米工藝良率近期已突破 60%。這一進展將使該公司能夠以更低成本生產(chǎn)更多高性能芯片,同時吸引新客戶。據(jù)報道,三星 2 納米工藝的良率在短短兩個季度內(nèi)增長了兩倍多。去年下半年,該工藝良率僅約 20%,導(dǎo)致晶圓上的大部分芯片無法使用。如今良率突破 60%,三星已與臺積電的良率水平基本持平。據(jù)悉,行業(yè)龍頭臺積電的 2 納米工藝良率在 60% 至 70% 之間。
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